Cerium polishing slurry - Cerium polishing slurry

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2016 - 12 - 06

颗粒度均匀一致，在允许的范围之内。纯度高，不含有可能引起划痕的杂质。有良好的分散性，以保证加工过程的稳定和高效。化学稳定性好，不致腐蚀工件。粉体晶型机构稳定，耐磨性及流动性好。粒度大的抛光粉，磨削力越大，越适合加工硬度高的材料，反之粒度小的抛光粉适合加工偏软类的材料。所以抛光粉都有一个粒度分布范围，平均粒径(中心粒径D50)的大小只决定抛光速度的快慢，而最大粒径Dmax决定抛光精度的高低。因此要达到高精度的表面抛光要求，必须控制抛光粉的粒度分布比例和范围。

研磨抛光液特性及应用范围

2016 - 12 - 06

对金属、五金、不锈钢工件来讲，对研磨抛光材料的要求也是很高的，同时，在选择研磨抛光材料抛光液的选择和使用都有要求。先为大家介绍抛光材料抛光液，具高纯度二氧化硅等复合磨料所成，形成原生粒子径的复合抛光材料抛光液，并添加特殊改性处理剂分散在乳液当中。研磨抛光材料抛光液具有高渗透、高强度、高附着力、成膜活性、高耐候以及强触变等性能：一、高纯度，有效减小对电子类产品的沾污二、抛光材料高抛光速率，利用分散均匀纳米二氧化硅等粒子达到高速抛光的目的三、高平坦度加工，本品抛光是利用纳米SiO2等材料的粒子，不会对加工件造成物理损伤，达到高平坦化加工对抛光材料抛光液使用注意事项：由于产品在贮存一段时间后，会逐渐增稠甚至呈冻状，所以在使用时建议以水：溶液=1：1的比例兑稀，并建议使用分散设备搅拌均匀（效果更好）后再添加。在添加时，还应该注意体系的粘度，避免由于基料粘度太低或剪切速率低而导致的重絮凝问题。抛光液主要应用范围包括：首先、抛光材料抛光液广泛用于纳米级的化学机械抛光，如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、硬盘盘片、宝石等纳米级及亚纳米级抛光加工。其次、抛光液产品可以作为一种添加剂，也可应用水性胶粘剂与高耐候外墙涂料等领域。

选择优质抛光粉的技巧

2016 - 12 - 06

要选好优质的抛光粉，首先我们要了解抛光粉的是组成成份，抛光粉的组成成份通常是由氧化铁、氧化锆、氧化铬、氧化铈、氧化铝、氧化硅，而各种分量的不同，对抛光粉性能的影响也不同.1、粉体的粒度大小：颗粒的大小及均匀度决定了抛光速度和精度，过筛的筛网目数能掌握粉体相对的粒度的值，平均粒度决定了抛光粉颗粒大小的整体水平。2、粉体莫氏硬度：硬度相对大的粉体具有较快的切削效果，同时添加一些助磨剂等等也同样能提高切削效果；不同的应用领域会有很大出入，包括自身加工工艺。3、粉体悬浮性：好的抛光粉要有较好的悬浮性，粉体的形状和粒度大小对悬浮性能具有一定的影响，片形及粒度细些的抛光粉的悬浮性相对的要好一些，但不是绝对的。抛光粉悬浮性能的提高也可通过加悬浮液（剂）来改善。 4、粉体的晶型：粉体的晶型是团聚在一起的单晶颗粒，决定了粉体的切削性、耐磨性及流动性。粉体团聚在一起的单晶颗粒在抛光过程中分离（破碎），使其切削性、耐磨性逐渐下降，不规则的六边形晶型颗粒具有良好的切削性、耐磨性和流动性。小结，商家选择优质抛光粉时，首先要看供应商抛光粉的参数指标，是否具有以上四点，其次还要看厂商的的信誉度，厂商的实力等。

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产品名称：
Cerium polishing slurry

上市日期： 2016-12-27

Product name: Cerium oxide polishing slurry, Cerium polishing slurry, Optical glass polishing slurry, Rare earth polishing slurry.

Applications: Fine polishing of glass ceramics, BK7, quartz, fused silica and other materials.

*Each of our crium polishing slurries have been uniquely engineered for optimal stock removal and surface finish.

Product Category: Cerium polishing slurry

product description
产品功能
产品参数

D50: 0.5-2.0um

CeO_{2 ≥ 90%}

D50: 0.5-2.0um

CeO_{2 ≥ 90%}